HFV® 가변 주파수 (~2MHz) 발생기
200mm, 300mm 웨이퍼 처리, 평판 디스플레이(FPD), DVD 장비의 플라즈마 발생장치로 주로 사용되는 유연한 HFV® 발생기는 IPVD, CVD, 에칭에 공정 일관성을 제공합니다. 이 다용도 전원 발생기의 특징에는 디지털 합성 가변 주파수 출력, 마이크로프로세서 제어, 3, 5, 8kW의 출력 전원 레벨 등이 있습니다. 또한 이는 1.765 - 2.165MHz의 출력 주파수 범위를 제공합니다. 다양한 챔버 구성과 공정 방법을 사용하여 반복적으로 작동할 수 있도록 펌웨어에 상존하는 주파수 동조 매개변수를 사용자 정의할 수 있습니다.
| 혜택 |
특징 |
- 실행 시 정확성을 향상시킵니다.
- 다용도로 사용할 수 있습니다.
- 신뢰성을 높입니다.
- 공정 유연성을 향상시킵니다.
- CoO를 줄입니다.
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- 사용자 정의 가능 주파수 동조 매개변수
- 1.765 - 2.165MHz의 출력 주파수 범위
- 3, 5, 8kW 출력 전원 레벨
- 디지털 합성 주파수 출력
- 마이크로프로세서 제어
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