소스 기술
Photo of Litmas RPS 1501 and 3001 remote plasma source platform
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Litmas® RPS 1501와 3001 일체형 플라즈마 발생장치와 전력전달 시스템

Litmas® 원격 플라즈마 발생장치 (Remote Plasma Source, RPS)는 웨이퍼의 사전 세정 (pre-clean), 포토레지스트 스트립, 박막증착 같은 고도 공정 기술을 가능하게 하는 고농도 반응성 기체의 플라즈마를 공급하는 장치이다. 제품이 차지하는 면적이 고작, 성능이 좋으며, 쉽게 사용할 수 있으며, 운영 비용도 저렵하기 때문에 디바이스의 손상율이 낮아지고 생산 수율이 좋아져 사용자는 중요한 플라즈마 공정 개발에만 집중할 수 있도록 해준다.
장점 특징
  • 파손되기 쉬운 웨이퍼의 이온전하에 의한 손상을 줄여 수율이
    높아짐
  • 고반응성 물질의 흐름을 만들어 더 높은 공정속도 가능
  • 공정화학물질의 폭을 넓혀 다양한 곳에 사용할 수 있음
  • 정밀 공정 제어에 걸맞는 빠른 매칭, 안정적인 전력 전달
  • 크기가 작아 유지비용도 절약
  • 반응성 기체종을 공정 챔버로 전달
  • 최고의 플라즈마 전력밀도 제공
  • 내구성 있는 SiO2 나 Al2O3 챔버 소재 사용
  • 특허 받은 LitmasMatch™ 반도체 전력전달 장치 사용
  • 전원공급장치, 임피던스 매칭 네트워크, 플라즈마 챔버를 하나로 통합

추가 정보

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