Litmas RPS 1501 & 3001 원격 플라즈마 소스

소스 기술

Photo of Litmas RPS 1501 and 3001 remote plasma source platform

Litmas^® RPS 1501 및 3001 원격 플라즈마 소스 플랫폼

Litmas^® RPS는 고컨덕턴스, 저표면 영역 형상에서 사용할 수 있는 유일하게 통합된 원격 유도 플라즈마 소스 및 전원 전달 시스템입니다. 이는 웨이퍼 예비 클리닝, 감광 수지 스트립, ALD와 같은 공정에 반응성 가스를 전달하는데 적합합니다. 또한 높은 전력 밀도와 고컨덕턴스로 인해 공정 후 배출가스 감축에 이상적인 플랫폼입니다.

Litmas RPS는 3밀리세컨드 이내에 최고 3kW의 안정된 무선 주파수 전원을 공급하기에 90nm 이하, 30nm 공정을 빠르게 변경할 수 있습니다.

혜택	특징
충전으로 인한 약한 장치 구조의 파손 감소 매우 반응적인 화학종 유량 생성 광범위한 공정 화학 반응 범위 신속한 정합, 안정된 전원 전달 신속한 정합, 안정된 전원 전달 최종 사용자 공정 개발 및 수율 향상	통합된 전원 공급, 정합, 플라즈마 챔버 특허 취득 LitmasMatch™ 고체 전원 전달 토폴로지 플러그 & 플레이 설치 독특하게 광범위한 정합 범위 내구력 있는 SiO2 또는 Al2O3 챔버 재료 소형 푸트푸린트 현존하는 최고의 플라즈마 전력 밀도 매우 낮은 소스 간 차이

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