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소스 기술
Photo of Litmas RPS 1501 and 3001 remote plasma source platform
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Litmas® RPS 1501 및 3001 원격 플라즈마 소스 플랫폼

Litmas® RPS는 고컨덕턴스, 저표면 영역 형상에서 사용할 수 있는 유일하게 통합된 원격 유도 플라즈마 소스 및 전원 전달 시스템입니다. 이는 웨이퍼 예비 클리닝, 감광 수지 스트립, ALD와 같은 공정에 반응성 가스를 전달하는데 적합합니다. 또한 높은 전력 밀도와 고컨덕턴스로 인해 공정 후 배출가스 감축에 이상적인 플랫폼입니다.
Litmas RPS는 3밀리세컨드 이내에 최고 3kW의 안정된 무선 주파수 전원을 공급하기에 90nm 이하, 30nm 공정을 빠르게 변경할 수 있습니다.
혜택 특징
  • 충전으로 인한 약한 장치 구조의 파손 감소
  • 매우 반응적인 화학종 유량 생성
  • 광범위한 공정 화학 반응 범위
  • 신속한 정합, 안정된 전원 전달
  • 신속한 정합, 안정된 전원 전달
  • 최종 사용자 공정 개발 및 수율 향상
  • 통합된 전원 공급, 정합, 플라즈마 챔버
  • 특허 취득 LitmasMatch™ 고체 전원 전달 토폴로지
  • 플러그 & 플레이 설치
  • 독특하게 광범위한 정합 범위
  • 내구력 있는 SiO2 또는 Al2O3 챔버 재료
  • 소형 푸트푸린트
  • 현존하는 최고의 플라즈마 전력 밀도
  • 매우 낮은 소스 간 차이

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추가 정보

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