GenCal - RF - 측정

GenCal™

GenCal 시스템은 플라즈마 공정 업계에서 흔히 사용되는 별개의 주파수에서 업계 최고의 측정 정확도와 AE의 R&D 수상 경력의 플라즈마 임피던스 센서에 사용되는 동일한 최첨단 하이브리드 전원 센서를 제공합니다. 이 최적화된 기술은 상당한 고조파 컨텐츠와 소음이 섞인 플라즈마 생성 신호가 있는 상태에서 다른 전원 계측기가 제공하지 못하는 수준의 정확도로 측정합니다

혜택	특징
발생기와 튜너의 올바른 작동을 빠르게 확인합니다. 발생기에서의 전원 변동에 관한 경고를 제공합니다. 전원 공급장치로의 입력을 위한 설정 지점을 선택합니다.	디지털 계량기 및 매개변수 LED 표시 선택 스위치 설정 포인트 손잡이

관련자료 다운받기

Gencal^™ Instrumentation brochure
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, April 2004 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
An Economical Method for Process Control in Pulsed-DC Magnetron Reactive Sputtering, June 2003 magazine reprint
AE Global Services brochure

추가 정보

추가적인 정보를 얻고 싶으시다면 영업팀으로 문의 하시기 바랍니다.
귀하의 지역에 있는 영업 대표자 혹은 인증된 관리자에게 문의 하시기 바랍니다.
어드밴스드 에너지로 부터의 DC 에 대한 사양정보 혹은 소식을 얻고 싶으시다면 회원으로 가입하시기 바랍니다.

이 페이지를 평가합니다.

이 페이지의 정보는 유용했습니다. (1. 매우 반대, 5 – 매우 찬성)
1 2 3 4 5

이 페이지의 정보를 어떻게 개선할 수 있습니까?