Advanced Energy는 반도체 양산에 사용되는 하이-테크 양산 공정에 중요한 기술을 개발하고 지원하는 글로벌 리더입니다. 정확하고 유연한 전원 시스템, 신뢰할 수 있는 가스 및 액체 유량 관리 시스템, 정확한 온도 계측기는 증착(PVD, CVD, 전기 도금, ALD), 화학물질 제거(에칭, 스트립, CMP), 표면 개질 공정(이온, 주입, RTP) 등과 같은 다단계 반도체 장비 양산에 사용됩니다..
전원 시스템
유량 관리
소스 기술
온도 측정
March 26, 2008 - Advances in Radio Frequency Plasma Power Delivery Systems presentation
2006년 6월 27일 - AE Unveils New Line of Sekidenko Multi-Channel OFTs and Emissometers
2006년 5월 16일 - AE Awarded Design Win by Leading Provider
Arc Handling in RF-Superimposed DC Processes (2006년) white paper
Overview of the Use of Copper Interconnects in the Semiconductor Industry (2004년) white paper
Performance Considerations of High-Power AC Plasma Deposition Power Supplies (2004년) white paper
Power Supply Topologies (1999년) white paper
Beyond Pressure Transients: Using Pressure-Insensitive MFCs to Control Gases In Semiconductor Manufacturing, 2006년 3월 magazine reprint
Powering to better yields, 2005년 11월 magazine reprint
Power Conversion and Control Reduces CoO and Improves Yield, 2005년 3월 magazine reprint
Maximizing tool uptime and process stability through an RF system upgrade, 2004년 11월 magazine reprint
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, 2006년 7월 magazine reprint
A Novel Frequency-Domain Small-Signal Analysis of Resonant Power Converters, 2006년 7월 magazine reprint
Partial Pressure Control in Reactive Sputtering, 2004년 6월 magazine reprint
A Novel Pulsed Supply With Arc Handling and Leading Edge Control, 2004년 4월 magazine reprint
High Power Pulsed Reactive Sputtering of Zirconium Oxide and Tantalum Oxide, 2004년 4월 magazine reprint
Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide Coatings, 2004년 4월 magazine reprint
Effective Closed-Loop Control for Reactive Sputtering Using Two Reactive Gases, 2004년 4월 magazine reprint
Stabilizing RF Generator and Plasma Interactions, 2004년 4월 magazine reprint
Optimising performance by integrating RF power and match technologies, December 2007/January 2008 magazine reprint
Used Equipment data sheet