소스 기술
XStream
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ACTIVE MATCHING NETWORK™를 활용한 XSTREAM® 원격 플라즈마 소스

높은 유량 및 고압 반응 가스 공정을 위한 완전 통합형 플라즈마 소스 플랫폼

공정 챔버 외부에 설치되는 고효율 Xstream® 플랫폼은 표면 개조,챔버 세정, 박막 식각 및 플라즈마를 이용한 증착을 위해 안정된 공급가스로부터 중성의 반응 가스 등을 발생시킵니다. 원격 플라즈마 소스Xstream 플랫폼에는 8kW의 고효율 전력 공급장치와 챔버 세정 소스에서상업적으로 이용할 수 있는 최대 임피던스 작동 범위의 특허 받은soild-state 타입의 Active Matching Network™가 갖추어져 있습니다. Xstream 플랫폼은 반응성 가스 공정에서 공정 엔지니어들에게 탁월한유연성을 제공하여 시스템 처리량을 늘리고 높은 비용의 자원을 활용하여최적화했습니다.
이점 이점
  • 높은 비용의 자원을 활용하여 최적화했습니다.
  • 상업적으로 이용할 수 있는 최대 임피던스 작동 범위를 제공합니다.
  • 챔버 세정 레시피 안에서 기존의 PFC/O2 포함한 매우 다양한 화학 공정 등이 원활하게 운영됩니다.
  • 공정 유연성과 처리량을 높여줍니다.
  • 제자리 및 원격 CVD 챔버 세정을 위한 능률적인 개조가 가능합니다.
  • 예전 특허 받은 AE Active Matching Network™ 기술을 적극 활용했습니다.
  • Solid-state, On-board 타입의 Active Matching Network™
  • 완전 통합형 고효율 400kHz 전력 공급장치
  • 선택형 VFP(Virtual Front Panel) 직관적, 실시간, 소프트웨어 기반의 사용자 인터페이스
  • 적은 소비량의 수냉식 냉각
  • 견고한 산화처리 코팅,촘촘한 미립자, 부식성에 강한 금속 소스 챔버
  • 플라즈마로 전달되는 실제 전력을 측정하는 첨단 모니터링 회로
  • 시스템 통합 및 모니터링을 위한 리드백 신호

AE 의 Xstream 은 미주지역과 유럽에서 판매되거나 거래될 수 없습니다.


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추가 정보

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