Advanced Energy 소스 기술

소스 기술

MF 플라즈마 소스 (Xstream^® )

효과적인 Xstream® Remote Plasma Source 는 표면 개질, 챔버 정화, 박막 에칭과 플라즈마 증착 을 목적으로 안정화된 가스로 부터 중립성의 반작용을 일으키는 입자를 발생시킵니다.

프로세스 챔버의 외부에 설치되며 Xstream®은 Remote plasma Source의 통합 형태 입니다. 6KW와 8KW 용량의 효과적인 power 를 공급하며 특허받은 기술인 챔버 정화작업이 가능한 가장 넓은 대역의 임피던스 레인지를 가지는 고체상태의 매칭 네트워크를 가지고 있습니다.

혜택

특징

고액의 재료를 효과적으로 쓸수 있게 합니다.
상업적으로 사용가능한 가장 넓은 대역의 임피던스 영역을 제공합니다.
PFC/O2 in-situ 챔버 정화recipe를 포함하는 화학물질의 넓은 연속적인 영역에서 동작합니다.
작업 능률, 유동성을 향상 시킵니다.
in -situ와 리모트 CVD 챔버 정화 모두를 위해 작업을 간소화 시켰습니다.
기존의 특허받은 AE 능동 매칭 네트워크를 강화 하였습니다.

고체상태의, 보드상에 있는 능동 매칭 네트워크.
매우 집적화 된 고효율의 400KHz 파워.
추가적인 VFP 프로그램 - 직관적이고 실시간의 소프트웨어 기반의 유저 인터페이스
물 소비 감소, 강화된 산화막, 부식되지 않는 금속 소스 챔버.
플라즈마로의 능동적인 전력전송을 재기 위한 향상된 모니터 회로.
시스템 집적과 모니터링을 대비한 리드백 신호.

AE 의 Xstream 은 미주지역과 유럽에서 판매되거나 거래될 수 없습니다.

문서 다운로드

Active Matching Network™를 활용한 Xstream^® 원격 플라즈마 소스 English
Xstream^® Remote Plasma Source With Active Matching Network^TM technical specification
AE Global Services brochure

추가 정보

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