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소스 기술
XStream
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MF 플라즈마 소스 (Xstream® )

효과적인 Xstream® Remote Plasma Source 는 표면 개질, 챔버 정화, 박막 에칭과 플라즈마 증착 을 목적으로 안정화된 가스로 부터 중립성의 반작용을 일으키는 입자를 발생시킵니다.
프로세스 챔버의 외부에 설치되며 Xstream®은 Remote plasma Source의 통합 형태 입니다. 6KW와 8KW 용량의 효과적인 power 를 공급하며 특허받은 기술인 챔버 정화작업이 가능한 가장 넓은 대역의 임피던스 레인지를 가지는 고체상태의 매칭 네트워크를 가지고 있습니다.
혜택 특징
  • 고액의 재료를 효과적으로 쓸수 있게 합니다.
  • 상업적으로 사용가능한 가장 넓은 대역의 임피던스 영역을 제공합니다.
  • PFC/O2 in-situ 챔버 정화recipe를 포함하는 화학물질의 넓은 연속적인 영역에서 동작합니다.
  • 작업 능률, 유동성을 향상 시킵니다.
  • in -situ와 리모트 CVD 챔버 정화 모두를 위해 작업을 간소화 시켰습니다.
  • 기존의 특허받은 AE 능동 매칭 네트워크를 강화 하였습니다.
  • 고체상태의, 보드상에 있는 능동 매칭 네트워크.
  • 매우 집적화 된 고효율의 400KHz 파워.
  • 추가적인 VFP 프로그램 - 직관적이고 실시간의 소프트웨어 기반의 유저 인터페이스
  • 물 소비 감소, 강화된 산화막, 부식되지 않는 금속 소스 챔버.
  • 플라즈마로의 능동적인 전력전송을 재기 위한 향상된 모니터 회로.
  • 시스템 집적과 모니터링을 대비한 리드백 신호.

AE 의 Xstream 은 미주지역과 유럽에서 판매되거나 거래될 수 없습니다.


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추가 정보

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